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Marvelous Designer 新機能紹介ウェビナー

 

開催日 2026年6月23日(火)
会場 オンライン
時間 13:00~14:30
参加費 無料
※事前登録必須
協力 CLO Virtual Fashion Inc.

― CG衣装制作に役立つ最新アップデート & 韓国開発チームへリアルタイムQ&A ―

イベント概要

Marvelous Designerのアップデート(2024〜2026年)の中でも、企業に所属するクリエイターに伝えたい新機能を解説するウェビナーです。
今年の春・2026年バージョンへのアップデートでは、クリエイターから要望も多かった2Dパターンを拡大縮小した際に形状保持する機能も入りました。このウェビナーでは、ゲーム業界などで、キャラクター衣装制作に関わる方向けに、CG衣装制作に役立つ新機能をピックアップしてご紹介します。

また、今回は韓国の開発チームによるリアルタイムQ&Aコーナーも実施!
Marvelous Designerはアップデートが多いソフトなので、新機能の実装背景や開発意図を、日本ユーザーから韓国開発チームへ直接聞いてみましょう。

📌 こんな方におすすめ
CGゲーム衣装のクリエイター・モデラー
ゲーム・アニメ業界の3Dキャラクターアーティスト
Marvelous Designerを使用しているクリエイター・モデラー
企業所属のモデラー
Marvelous Designer 開発チームに質問してみたい方
最近のアップデートを知りたい方
Marvelous Designer初心者・これから使用したい方
スペシャル企画🇰🇷 韓国の開発チームにQ&A 🇰🇷

韓国の開発チームがウェビナーにオンラインで参加します。各機能がどんな要望・意図から生まれたのか、開発チームに聞くことができます。

当日のプログラム

1
新機能デモンストレーション
Marvelous Designer 2024年から2026年までのなかで、特におすすめな機能をデモンストレーションでご紹介
Marvelous Designerの日本チームもご紹介

2
開発背景トーク(🇰🇷 韓国開発チーム登壇🇰🇷
韓国開発チームメンバー紹介
・どんなメンバーで構成されているの?
・ユーザーの声はどんなふうに集めてるの?
・ユーザーの要望から生まれた機能

3
ライブQ&Aセッション
参加者からの質問に開発者が回答
事前質問も募集しておりますが、当日質問も大歓迎です!!
※当日は通訳が同席しますので、ご質問は日本語で受付しております。

紹介する新機能(一部抜粋)

2026


2Dパターン変形時の3D形状保持

3D衣服の形状を保ったまま、2Dパターンのサイズを変更できます。

2026


リトポロジーの性能・品質改善

選択した3Dオブジェクトだけを表示できるため、複雑なシーンでも作業に集中できます

2026


2Dパターンのフィットマップ表示

2Dパターン上でフィットマップを直接確認できます。

2025


四角ポリゴンリメッシュの改善

四角ポリゴンメッシュの品質が大幅に向上し、三角形ポリゴンを減らすことでエッジラインの作成がより速く美しくなりました。

2025


側面・裏面のUV拡張

衣装のUV展開が前面だけでなく、側面や裏面も展開できるようになりました。

2024


GPUシミュレーションの改善

GPUシミュレーションの改善(CPUシミュレーションと同等の衝突処理精度を維持)※2026年に副資材のシミュレーションにGPUもできるようになりました。

開発チームQ&A ゲスト紹介

 

CTO 
Sean Jeon
Marvelous Designer   所属:R&D 韓国

CLO Virtual FashionのCTOとして、Marvelous DesignerおよびCLO の技術的方向性を統括。
現実に忠実な3D衣装シミュレーションの実現を追求するとともに、3Dエコシステム全体にて世界中のクリエイターとパートナーをつなぐ、拡張性と持続可能性に優れたプラットフォームの構築をリードしています。

プロダクトマネージャー
Aina Chung 
Marvelous Designer   所属:R&D 韓国

Marvelous Designerのプロダクトマネージャーとして、「3D衣装シミュレーションの世界標準としてのMarvelous Designer」を確立すべく、プロダクト戦略とロードマップを推進。

ユーザーの声とフィードバックを起点に、技術と創造をつなぐ架け橋となり、デザイナーが思い描いたアイデアを形とできるよう支援しています。

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